甘肃KGB树形吉塞拉布鲁克斯樱桃苗售后**,组培吉塞拉根系

吉塞拉5 三倍体杂种，亲本为酸樱桃×灰毛叶樱桃。在欧洲应用广泛，在北美NC-140的所有测试点也表现较丰产、早实。吉塞拉5砧甜樱桃树体大小仅为马扎德砧甜樱桃的45%。树体开张，分枝基角大。抗樱属坏死环斑病毒(PNRSV)和洋李矮缩病毒(PDV)。在黏土地上表现良好，萌蘖少。固地性能良好，但仍需支撑。 吉塞拉6 三倍体杂种，亲本为酸樱桃×灰毛叶樱桃，半矮化砧。吉塞拉6砧甜樱桃的树体大小为马扎德砧甜樱桃的70%～80%。树体开张，圆头形，丰产。适应各种类型土壤，在黏土地上生长良好。萌蘖少，抗病毒病。固地性能良好，但仍需支撑。 吉塞拉7 三倍体杂种，亲本为酸樱桃×灰毛叶樱桃。吉塞拉7砧甜樱桃的树体大小为马扎德砧甜樱桃的50%，树体开张，花量大，早果丰产性强。适应范围广，抗寒、抗涝、抗洋李矮缩病毒(PDV)。固地性能良好，但仍需支撑。 吉塞拉12 三倍体杂种，亲本为灰毛叶樱桃×酸樱桃，半矮化砧。吉塞拉7砧甜樱桃的树体大小为马扎德砧甜樱桃的60%。适应各类土壤，抗病毒，萌蘖少。固地性能良好，但仍需支撑。

1.选择疏散分层形（主干疏层形） 露天可以分三层， **层枝距离地面60cm，*二层距离**层高80cm，*三层再高80cm。大棚可以两层，通过每年定干来完成整形。这样就不需要清干处理。 疏散分层形 2.选择KGB树形 核心利用多主枝来均衡树势，实现樱桃不拉枝栽培。那么在幼树期需进行平茬处理（类似清干的技术），连主干一起清了，因为这种树形没有主干。 3.选择UFO树形进行栽培 这个树形就是培养多个直立主枝，和kgb不同的是这个直立主枝是在一个垂直面上，把传统的3d树形变成了2d，因而形成了一道结果墙。在土壤肥沃，生长量过的地方，这个树形需要进行清干处理，或者**年直立主枝发枝量太少，都需要进行清干处理。 4.选择纺锤形 纺锤形的种类多，比如高纺锤形（tsa），细长纺锤形，主干形，**细轴（ssa）等，就需要进行清干处理。清干一方面增加了枝量，另一方面拉开枝干比。如果不拉开枝干比，会造成卡脖现象和结果部位外移严重（主枝光秃现象）。清干可以维持***干的强势地位，拉开级次，有利于后期更新修剪。 清干生长一年后的情况 高纺锤形培养过程（举例） 以高纺锤形为例，树体的清干不是单一的一剪了之，清干需要结合重新定干，并且要刻芽抹芽结合起来。如下图当年定植的大樱桃，定植时候粗度在1.5公分左右，定干70cm。发出3-5个长枝，由于樱桃生长量大，极性强，级次明显无法拉开，这些枝条除了保留***干之外，需要进行斜剪疏除，剪口下留显芽。 一年生甜樱桃放任树 再次定干高度一般在1.5m左右，具体根据树体粗度以及芽体的饱满程度，过于弱的树定干在1m左右即可，弱树来年及时发枝多也还是弱。萌芽前进行刻芽，可在发芽后一段时间在抹芽，防止刻芽效果不好。刻芽的多少结合树体情况和目标树形来。 来年发芽前进行处理 清干后发枝量大秘密在于良好的根系，已经经过一年的生长根系发育好，来年出枝也好。这也需要土壤培肥，做好基础工作，沃土养根。清干后生长一年的情况，全树主枝15-20个，树干2.5m－3m，分布均匀。 清干后生长一年的情况 总结 清干技术实际是针对果树的主枝进行较重短截的一种修剪手法。只是清干是针对所有主枝进行，目的是实现级次拉开，缓解结果部位外移，培育新结果枝组的方法。尤其是樱桃树年生长量大，当年定植发出的枝条级次很难拉开，利用这种技术可以简便的实现园区管理，也适合规模化园区的发展。 你想了解更多关于果树清干技术，除了樱桃，其他果树可以用吗？以及清干的注意事项。那就利用**app，在上方搜索框里输入“果树清干”就可以了解更多相关技术了。 大樱桃主要树形 ·自然开心形 主干疏层形 · 改良主干形 细长纺锤形 篱璧形 大樱桃整形修剪主要 措施 拉枝 缓放 疏枝 短截 回缩 摘心和剪梢 拿枝 刻芽 抹芽除萌

温室大樱桃清园分为物理方法清园和化学药剂清园，适时清园可以压低下一茬病虫害发生基数，降低生长期病虫害防治成本。 一、物理方法清园 1、物理方法清园较适宜的时间：落叶后和升温的一个周之内。 2、物理方法清园的具体方法 落叶后立即将树叶就地深埋（埋深度40公分），或将叶片扫回家烧掉，以杀灭病菌和部分虫害。因为樱桃的很多病虫害都在叶片上越冬，成为下一年的发病源和虫源。如褐腐病、灰霉病、煤污病、褐斑病、圆斑病、螨类、金纹细蛾等。注意：因为病害的传播主要靠风、雨传播，所以不要将清扫的叶片堆放在棚内或大棚附近，否则起不到清园的作用。 温室升温的一个周之内，将修剪掉的枝条收拾干净，进行烧毁。 二、化学药剂清园 1、化学药剂清园的适宜药剂 丙环唑、氟硅唑、辛菌胺、梧宁霉素、石硫合剂等。 2、化学药剂清园的适宜时间 大棚升温的一个周之内，大樱桃萌芽前进行。 3、石硫合剂清园方法 如果用石硫合剂清园，一是其度数以5—7度为好，不要太高，太高则容易烧芽；二是喷石硫合剂的适宜时间一定要距喷破眠剂（50%单氰胺）5—7天，因为单氰胺是酸性的，而石硫合剂是碱性的，二者喷的时间如果靠得过近，则容易造成酸碱中和，使二者都失去效力。 同时，也要注意，喷石硫合剂的时间还必须要在升温的10天之内完成，不要距萌芽时间过近，目的同样是为了避免烧芽。